基本信息
书名:半导体锗材料与器件C 克莱著 屠海令译
定价:70.00元
作者:(比)C.克莱E.西蒙
出版社:冶金工业出版社
出版日期:2010-05-01
ISBN:9787502451752
字数:467000
页码:
版次:1
装帧:平装
开本:16开
商品重量:0.622kg
编辑推荐
本书作者Cor Claeys博士和Eddy Simoen博士是世界知名的半导体材料和器件专家,均任职于国际的微电子研究机构IMEC,他们在书中系统总结了锗材料与工艺技术的**进展和锗器件及其在光电子学、探测器与太阳能电池等领域的研究成果。
全书涵盖了锗晶体生长、缺陷控制、杂质影响、加工工艺、锗器件及器件模拟,以及锗在红外与其他领域的应用等内容,并展望了未来锗材料和器件的发展前景。其内容广泛,数据详实,可作为高等院校、科研院所和相关单位中从事半导体器件与材料物理学习和研究人员的参考用书。
内容提要
锗是研发晶体管技术的基础性半导体材料,近年来,由于其在微纳电子学领域的潜在优势,半导体锗材料又重新受到人们的关注。
本书是全面深入探讨这一技术领域的首部著作,其内容涵盖了半导体锗技术研究的*进展,阐述了锗材料科学、器件物理和加工工艺的基本原理。作者系来自科学界及工业界从事该领域前沿研究的专家。
本书还介绍了锗在光电子学、探测器以及太阳能电池领域的工业应用。它对从事半导体器件与材料物理研究的科技人员、高等院校材料专业的师生以及工业和研究领域的工程师们而言,是一部必不可少的参考书,无论是专家还是初学者都将从本书中受益。
目录
作者介绍
文摘
序言
这本书的体例安排上,有一种老派经典的韵味,它不太迎合现代读者对于“交互性”和“多媒体”的需求,完全依赖于文字和静态图表的力量。这反而形成了一种独特的沉浸感。当我深入阅读到关于缺陷工程和表面钝化处理的章节时,我几乎能想象出作者在实验室中,面对着各种生长晶体时的那种细致入微的观察和记录。书中的措辞非常严谨,几乎没有使用任何煽动性的语言,一切都基于可验证的物理事实和实验数据。这种冷静、客观的叙述风格,非常适合需要精确决策的研发人员。它像一位经验丰富、言辞克制的导师,在你迷茫时,提供坚实的知识锚点,而不是空泛的鼓励。读完一章,需要的不是兴奋,而是一种踏实的“我确实掌握了”的内在满足感。
评分这本书的装帧风格和内容深度,让我联想到上世纪八九十年代国内引进的那些影响了一代科研人员的经典理工科译著。它代表着一种对知识完整性的尊重,不因为时间的流逝而简化核心内容,也不因为技术的更新而刻意回避早期的奠基性工作。我感觉这本书更像是一部“百科全书式”的参考手册,适合作为专业实验室的常备工具书,而不是快餐式的入门读物。每一次需要回顾某个基本参数的物理意义,或者需要验证一个经典理论模型的正确性时,都可以随时翻开它。它可能不会告诉你最新的薄膜沉积技术,但它会让你彻底明白为什么要选择这种材料组合。对于希望系统性地建立起半导体物理与材料科学知识体系的人来说,它提供的是一个稳固的知识地基,让未来的学习和创新建立在坚不可摧的基石之上。
评分初次接触这类专业书籍,我通常会先试探性地翻阅几个核心概念的论述。这本书在处理能带结构和载流子输运这些基础物理问题时,展现出一种近乎偏执的精确性。作者似乎毫不满足于表面的描述,而是深入到量子力学的数学推导中去。我看到某些关键的公式推导过程被详尽地展示出来,每一个变量的引入、每一步积分的求解,都清晰可见,仿佛作者正坐在我对面,手把手地教我如何从第一性原理出发,构建出描述锗半导体行为的模型。这种深度解析的风格,对于习惯了简略摘要的现代快餐式阅读来说,无疑是一种挑战,需要投入大量的时间和精力去消化。但可以预见,一旦攻克了这些理论堡垒,对半导体器件特性的理解就会上升到一个全新的、更具预见性的高度,不再是简单的“知道它是什么”,而是“理解它为什么是这样”。
评分翻阅到器件应用部分,我感受到译者屠海令先生的专业素养。那些原本可能晦涩难懂的德语(或者其他语种)技术术语,被转换成了中文语境下非常地道的表达。特别是涉及到特定工艺参数的描述,比如热氧化、光刻套刻精度之类的细节,翻译得精准到位,没有丝毫的含糊其辞。这对于非母语学习者来说至关重要,因为在工程实践中,一个术语的微妙差异可能导致整个实验的失败。我注意到书中对早期晶体管和集成电路的提及,这不仅仅是历史回顾,更像是通过这些“活化石”般的例子,反过来印证和巩固前面材料学部分的理论。这种材料基础与器件实现的完美结合,使得这本书的实用性大大增强,它不是高阁于象牙塔中的理论大全,而是能指导工程师思考如何优化现有制程的宝贵资料。
评分这本书的封面设计得非常朴实,那种略带磨砂质感的纸张,让我想起学生时代翻阅那些经典教材时的触感。拿起书本的时候,首先感受到的是它分量十足的重量,这无疑预示着内容的广度和深度。内页的排版简洁明了,大量清晰的图表和公式占据了相当的篇幅,光是浏览目录,就能感受到作者在梳理知识体系上的严谨与用心。我尤其注意到其中关于晶体生长和掺杂工艺的章节安排,逻辑链条非常紧密,从基础的物理化学原理,一步步深入到实际的材料制备控制,这种循序渐进的叙述方式,对于初学者来说应该是非常友好的引导。我猜想,这本书的价值不在于提供最新的研究动态,而在于构筑一个坚实、系统的理论基础,让人能扎扎实实地理解半导体材料科学的核心脉络。对于那些希望从根本上弄懂锗材料特性,而非仅仅停留在应用层面的工程师或学生来说,这无疑是一本值得细细研读的工具书。
本站所有内容均为互联网搜索引擎提供的公开搜索信息,本站不存储任何数据与内容,任何内容与数据均与本站无关,如有需要请联系相关搜索引擎包括但不限于百度,google,bing,sogou 等,本站所有链接都为正版商品购买链接。
© 2025 windowsfront.com All Rights Reserved. 静流书站 版权所有