基本信息
书名:半导体物理性能手册 第1卷
定价:198.00元
作者:(日)足立贞夫
出版社:哈尔滨工业大学出版社
出版日期:2014-04-01
ISBN:9787560345130
字数:
页码:
版次:1
装帧:平装
开本:16开
商品重量:0.4kg
编辑推荐
内容提要
《半导体物理性能手册(第1卷)(英文版)》系Springer手册精选原版系列。《半导体物理性能手册(第1卷)(英文版)》主要包括Diamond(C)、Silicon(Si)、Germanium(C)、Gray Tin(a—Sn)、Cubic Silicon Carbide(3C—SiC)、Hexagonal Silicon Carbide(2H—,4H—,6H—SiC,etc.)、Rhombohedral Silicon Carbide(15R—,21R—,24R—SiC,etc.)等内容。
目录
作者介绍
文摘
序言
我是一名理论物理背景的研究生,主要关注的是材料的量子输运现象。坦白讲,市面上很多面向工程应用的手册,往往在数学推导的严谨性上有所欠缺,公式的来源和适用条件交代得不够清楚。然而,《半导体物理性能手册 第1卷》在这方面表现得极为出色。它的傅立叶变换和格林函数在能带计算中的应用,推导过程清晰到令人赞叹。比如,它对有效质量概念的引入,不仅给出了经典的定义,还深入探讨了非抛物线能带结构下有效质量的张量特性,这对于理解高场效应下的载流子行为至关重要。我特别喜欢书中对玻尔兹曼输运方程(Boltzmann Transport Equation, BTE)的详细展开,它不仅给出了BTE本身,还清晰地解释了弛豫时间近似(Relaxation Time Approximation)的物理意义和局限性,甚至给出了蒙特卡洛模拟(Monte Carlo Simulation)的初步思路。这本书在理论的深度上,完全可以作为高年级本科生或研究生的专业参考书,既能满足对物理原理的深究,又能为后续的数值计算和模型建立打下坚实的基础。这种理论深度与实用性的完美结合,是极其难得的。
评分说实话,我刚拿到这本《半导体物理性能手册 第1卷》的时候,心里是抱着一丝怀疑的态度的,毕竟市面上关于半导体物理的书汗牛充栋,很多都只是换汤不换药的重复。但是,当我翻开关于“缺陷工程”和“界面态”的那几章时,我立刻意识到我错了。这本书的价值在于它对“非理想状态”的精细刻画。我们都知道,在实际的半导体器件中,界面和缺陷才是决定性能上限的瓶颈。书中详细讨论了戴维斯态(Dangling Bonds)的电子结构特性,以及它们如何通过缺陷辅助隧穿影响器件的寿命和可靠性。这些内容在很多基础物理教材中往往一带而过,但在本书中却被提升到了核心地位,并且提供了大量的实验数据和计算模型进行佐证。特别是对于MOSFET的固定氧化物电荷和陷阱电荷的量化分析部分,简直是教科书级别的严谨。这让我能够更清晰地定位到我们的生产线上出现的那些“顽固”的良率问题,不再是盲目地调整工艺参数,而是能从物理根源上去解决问题。它提供了一种看待和分析半导体问题的“物理透镜”,非常犀利和实用。
评分最近我们团队在尝试开发新型宽禁带半导体,比如GaN和SiC,传统基于Si的经验和模型已经不太适用了。我们急需一本能够涵盖这些新型材料特性的参考书。《半导体物理性能手册 第1卷》虽然主打基础,但它在“扩展应用”的部分给了我们极大的启发。书中专门辟出章节详细对比了III-V族和IV族半导体的带隙结构差异、载流子饱和速度的温度依赖性,以及最重要的——高电场下的非线性输运特性。对于GaN这种高电子迁移率器件(HEMT)来说,准确掌握其在工作状态下的载流子热效应和击穿机制是重中之重。这本书里关于“载流子加热效应”的描述非常生动,它不是简单地给出图表,而是通过微观动理学的角度解释了为什么载流子会偏离费米-狄拉克分布,进而影响到器件的输出功率。这使我们能够针对性地优化钝化层材料,以控制界面陷阱对高功率输出的影响。对于向下一代功率电子领域转型的工程师来说,这本书提供的跨材料体系的物理框架,比单纯罗列特定材料参数更有战略价值。
评分从装帧和可读性的角度来看,这本书的设计也体现了出版方的用心良苦。作为一本工具书,我们最怕的就是图表模糊不清,或者公式印刷错误百出。《半导体物理性能手册 第1卷》的纸张质量非常好,即便是那些复杂的能带结构图和能量分布函数图,线条也清晰锐利,对比度极佳。更重要的是,它采用了非常人性化的排版,关键公式和定义都用粗体或特殊框体标出,使得在快速查阅某个特定参数时,眼睛能迅速定位。我个人尤其喜欢它在每个章节末尾设置的“历史注脚”和“现代挑战”小节,这些部分用一种更具叙事性的口吻,介绍了某个核心概念的发现历程,或者指出了当前领域尚未解决的前沿问题。这不仅仅是一本冰冷的科学参考资料,它更像是一位经验丰富的导师在和你进行一场深度对话。它教会了我如何去思考,而不是仅仅记住答案。在无数个深夜赶项目进度时,这本书始终是我最信赖的伙伴,它的可靠性和深度,是任何电子版资料都无法替代的。
评分这本《半导体物理性能手册 第1卷》简直是我的救星,尤其是在我这个搞器件设计的人眼里。我过去在处理一些新型材料的迁移率和载流子复合这些基础参数时,总是得翻阅一堆零散的文献和实验报告,效率低得让人抓狂。这本书的出现,简直是把整个领域的“内功心法”都给系统化地整理出来了。比如,它对硅和锗在不同温度、不同掺杂浓度下的载流子散射机制的论述,那种深度和广度是其他教材望尘莫及的。我特别欣赏它没有停留在理论公式的堆砌上,而是深入到了微观层面,用扎实的物理图像去解释宏观观测到的现象。记得有一次我为一个超低功耗设计挑选合适的沟道材料,光是看书里关于杂质能级对阈值电压影响的章节,我就立刻找到了最匹配的掺杂方案。这本书的编排逻辑性极强,从晶格振动、电子能带结构,到输运性质,层层递进,让你对半导体材料的内在特性有一个全局且深刻的理解。它不是那种读一遍就能掌握的“速成秘籍”,更像是一部需要长期研读、时常查阅的“字典”和“兵书”,每次重读都能发掘出新的理解层次。对于任何想在半导体领域深耕的工程师或研究人员来说,这绝对是案头必备的工具书。
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