发表于2024-12-23
碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用 pdf epub mobi txt 电子书 下载
商品名称: | 碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用 |
作者: | [日] 木本恒暢(Tsunenobu Kimoto)[美] 詹姆士 A. 库珀(Ja |
市场价: | 150.00 |
ISBN号: | 9787111586807 |
版次: | 1-1 |
出版日期: | |
页数: | 499 |
字数: | 649 |
出版社: | 机械工业出版社 |
本书是一本有关碳化硅材料、器件工艺、器件和应用方面的书籍,其主题包括碳化硅的物理特性、晶体和外延生长、电学和光学性能的表征、扩展缺陷和点缺陷,器件工艺、功率整流器和开关器件的设计理念,单/双极型器件的物理和特征、击穿现象、高频和高温器件,以及碳化硅器件的系统应用,涵盖了基本概念和新发展现状,并针对每个主题做深入的阐释,包括基本的物理特性、新的理解、尚未解决的问题和未来的挑战。
译者序
原书前言
原书作者简介
1章 导论1
1.1 电子学的进展1
1.2 碳化硅的特性和简史3
1.2.1 早期历史3
1.2.2 SiC晶体生长的革新4
1.2.3 SiC功率器件的前景和展示5
1.3 本书提纲6 参考文献7
2章 碳化硅的物理性质10
3章 碳化硅晶体生长36
4章 碳化硅外延生长70
5章 碳化硅的缺陷及表征技术117
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