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内容简介

　　《金刚石膜制备与应用（下）》比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积（CVD）金刚石膜的制备、组织结构和性能表征，金刚石膜化学气相沉积理论，以及在电学（电子学）、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用，在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书分六篇，共29章，第一篇，金刚石膜的制备；第二篇，金刚石膜组织结构和性能表征；第三篇，金刚石膜沉积理论；第四篇，金刚石膜的应用；第五篇，纳米金刚石膜制备与应用；第六篇，金刚石相关材料。

作者简介

吕反修，教授，博士生导师。1968年毕业于北京钢铁学院金属学系。曾为宁夏青铜峡铝厂工人、代理技术员、宁夏机械研究所助理工程师。1979～1984年留学英国，回国后受聘北京科技大学，曾任材料科学系副主任、材料科学与工程学院功能材料研究所所长：曾兼任“863”计划新材料技术领域第一届、第二届、第三届专家委员会功能材料专家组办公室主任，热处理学会副理事长。现任国内外十余种学术刊物编委或高级顾问。长期从事CVD金刚石膜及相关材料研究。曾完成20多项科研项目，发表论文300余篇（包括国内外学术会议邀请报告20余篇），取得授权专利15项。曾获北京市科学技术进步奖二等奖两项，轻工部科技进步奖二等奖一项，教育部高等教育国家级教学成果奖一等奖一项（多人获奖），以及国家科委表彰，“863”计划先进工作者和冶金部先进教育工作者称号。曾参编《表面工程手册》、《现代表面工程设计手册》、《材料科学与工程国际前沿》、《中国材料工程大典》等著作部分章节。

目录

《纳米科学与技术》丛书序
前言
第一篇 金刚石膜的制备
第1章 化学气相沉积金刚石膜概论
第2章 热丝CVD
第3章 微波等离子体CVD金刚石膜沉积技术
第4章 直流电弧等离子体喷射CVD
第5章 其他制备方法
第6章 金刚石膜外延生长
第7章 金刚石膜控制掺杂
第二篇 金刚石膜组织结构和性能表征
第8章 金刚石膜组织结构表征方法
第9章 金刚石薄膜表面性能
第10章 金刚石薄膜的电学性能
第11章 金刚石热学性质及应用
第12章 金刚石膜力学性能
第13章 金刚石膜光学性能
第三篇 金刚石膜沉积理论
第14章 金刚石膜化学气相沉积理论
第15章 等离子体模拟与诊断
附录 缩略语
索引
彩图
第四篇 金刚石膜的应用
第16章 金刚石膜的加工
第17章 金刚石薄膜涂层硬质合金工具
第18章 金刚石薄膜电学应用
第19章 金刚石膜的电化学应用
第20章 金刚石膜光学应用
第21章 声学应用
第22章 金刚石膜在极高能量密度环境中的应用前景
第23章 CVD金刚石膜市场分析
第五篇 纳米金刚石膜制备与应用
第24章 纳米金刚石的制备
第25章 纳米金刚石的特性与应用
第六篇 金刚石相关材料
第26章 类金刚石薄膜制备及应用
第27章 立方氮化硼薄膜
第28章 氮化碳薄膜
第29章 新型纳米碳材料
附录 缩略语
索引
彩图

前言/序言

金刚石膜制备与应用 下(精)/纳米科学与技术 电子书 下载 mobi epub pdf txt

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