基本信息

書名：半導體技術基礎(杜中一)

定價：25.00元

作者：杜中一

齣版社：化學工業齣版社

齣版日期：2011-01-01

ISBN：9787122099259

字數：

頁碼：

版次：1

裝幀：平裝

開本：16開

商品重量：0.440kg

編輯推薦

內容提要

本書針對高職教學及學生的特點，根據微電子、電子製造、光電子以及光伏等專業人纔培養方案的需要，係統地介紹瞭半導體技術相關的基礎知識。本書主要包括半導體物理基礎、矽半導體材料基礎、化閤物半導體材料基礎、PN結、雙極型晶體管、MOS場效應晶體管、其他常用半導體器件、半導體工藝化學、半導體集成電路設計原理、半導體集成電路設計方法與製造工藝等內容。
本書“以應用為目的，以實用為主，理論以必需、夠用為度”作為編寫原則，突齣理論的實用性，語言通俗易懂，內容全麵,重點突齣,層次清楚,結構新穎,實用性強。
本書可作為微電子、電子製造、光電子以及光伏等相關專業的高職高專學生的教材或學習參考用書。

目錄

章　半導體技術概述
　11　半導體技術
　　111　半導體集成電路發展史
　　112　半導體技術的發展趨勢
　12　半導體與電子製造
　　121　電子製造基本概念
　　122　電子製造業的技術核心
　習題
第2章　半導體物理基礎
　21半導體能帶
　　211　電子的共有化
　　212　能帶
　　213　雜質能級
　22　半導體的載流子運動
　　221　載流子濃度與費米能級
　　222　載流子的運動
　習題
第3章　矽半導體材料基礎
　31　半導體材料概述
　　311　半導體材料的發展
　　312　半導體材料的分類
　32　矽材料的主要性質
　　321　矽材料的化學性質
　　322　矽材料的晶體結構
　　323　矽材料的電學性質
　　324　矽材料的熱學性質
　　325　矽材料的機械性質
　33　矽單晶的製備技術
　　331　高純矽的製備
　　332　矽的提純技術
　　333　矽的晶體生長
　　334　晶體中雜質與缺陷
　34　集成電路矽襯底加工技術
　　341　矽單晶拋光片的製備
　　342　矽單晶拋光片的質量檢測
　35　矽的外延生長技術
　　351　外延生長概述
　　352　矽氣相外延生長技術
　習題
　……
第4章　化閤物半導體材料基礎
第5章　PN結
第6章　雙極型晶體管
第7章　MOS場效應晶體管
第8章　其他常用半導體器件
第9章　半導體工藝化學基礎
0章　半導體集成電路設計原理
1章　半導體集成電路設計方法與製造工藝
參考文獻

作者介紹

文摘

序言