先进光学制造工程与技术原理

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程灏波 著
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  • 工程原理
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出版社: 北京理工大学出版社
ISBN:9787564075538
商品编码:1218657946
出版时间:2013-08-01

具体描述

作  者:程灏波 著作 定  价:48 出 版 社:北京理工大学出版社 出版日期:2013年08月01日 页  数:347 装  帧:平装 ISBN:9787564075538 ●第1章 先进光学制造工程概述
●§1.1 光学及光电仪器概述
●§1.2 光学制造技术概述
●§1.3 先进光学制造的发展趋势
●第2章 光学零件及其基础理论
●§2.1 光学零件概述
●§2.2 光学零件的材料
●§2.3 非球面光学零件基础理论
●§2.4 抛光机理学说
●§2.5 光学零件质量评价
●参考文献
●第3章 计算机控制小工具技术
●§3.1 计算机控制小工具技术发展概述
●§3.2 计算机控制小工具加工原理及数学模型
●§3.3 计算机控制小工具设计与在线测量系统
●§3.4 计算机控制小工具加工工艺研究
●§3.5 固着磨料在计算机控制小工具技术中的应用
●参考文献
●第4章 磁流变抛光技术
●§4.1 磁流变抛光技术概述
●部分目录

内容简介

《优选光学制造工程与技术原理》(作者程灏波、谭汉元)共11章。靠前章介绍了光学仪器及光电仪器、优选光学制造技术的发展等内容。第2章主要介绍了光学零件的基础理论,包括数学描述、零件材料、抛光机理、质量评价等内容。第3章至第6章详细介绍了计算机控制小工具头技术、磁流变抛光技术、电流变技术、磁射流技术等光学非球面制造技术。第7章综述了其他优选光学制造新技术。第8章至靠前1章介绍了光学非球面检测技术,包括轮廓检测技术、干涉检测技术、子孔径拼接技术、亚表面损伤检测技术。 本书适用于航空航天、天文和信息技术等领域的从事光学制造检测工作的工程技术人员,以及大专院校相关专业的学生和科研人员。
好的,这是一份关于一本假设的、名为《材料科学基础与前沿应用》的图书简介,旨在详细介绍其内容,同时避免提及您提到的《先进光学制造工程与技术原理》。 --- 图书简介:《材料科学基础与前沿应用》 1. 概述与定位 《材料科学基础与前沿应用》是一部全面、深入、系统地阐述当代材料科学核心理论、实验技术及未来发展方向的权威著作。本书旨在为材料科学、化学工程、物理学、机械工程以及相关交叉学科的本科高年级学生、研究生以及科研工作者提供一份兼具理论深度与工程实践价值的参考读物。 本书不仅夯实了传统材料学的基础知识,如晶体结构、热力学、动力学等,更紧密追踪了近二十年来材料科学领域取得的重大突破,特别是智能材料、纳米材料、能源材料以及生物医用材料等新兴领域的前沿技术与应用。全书结构清晰,逻辑严谨,力求在理论阐述的同时,结合大量工程实例,帮助读者建立从微观结构到宏观性能的完整认知体系。 2. 核心内容模块 本书共分为五大部分,涵盖了从基本原理到尖端技术的完整知识谱系: 第一部分:材料科学的基石(Fundamentals of Materials Science) 本部分是全书的理论基础,详细回顾了材料科学必须掌握的关键概念。 晶体结构与缺陷工程: 深入探讨了晶体对称性、晶格点阵理论,并重点阐述了点缺陷、线缺陷和面缺陷如何决定材料的力学和电学性质。内容涵盖了布拉维点群、倒易点阵的概念,以及如何通过控制缺陷实现材料性能的调控。 材料热力学与相变动力学: 聚焦于吉布斯自由能、相图的解读与构建。详细分析了扩散机制、成核与长大过程,为理解材料的热处理和烧结过程奠定理论基础。引入了非平衡态热力学的初步概念。 材料的机械性能: 详细剖析了弹性、塑性变形机理,包括位错运动、加工硬化、蠕变和疲劳的微观根源。特别引入了断裂力学的基本原理,如应力强度因子和断裂韧性的计算方法。 电学、磁学与光学基础: 概述了固体中电子的能带理论,区分导体、半导体与绝缘体的区别。磁性部分详细解释了磁畴、磁化过程、软磁与硬磁材料的特性。光学部分则侧重于材料的吸收、反射和透射机制。 第二部分:先进加工与表征技术(Advanced Processing and Characterization) 本部分关注如何合成新型材料以及如何“看清”材料内部结构。 材料合成与制备技术: 涵盖了从传统冶金到现代化学气相沉积(CVD)、分子束外延(MBE)等薄膜生长技术。重点介绍了粉末冶金的高温烧结过程控制以及溶胶-凝胶法在陶瓷制备中的应用。 计算材料学导论: 介绍了第一性原理计算(如DFT)在预测材料性质中的作用,以及分子动力学模拟在研究原子尺度行为上的优势。 微观结构表征: 详尽阐述了扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)的成像原理与数据解析。着重讲解了X射线衍射(XRD)在确定物相和晶格参数中的应用,以及能量色散X射线谱(EDS)和电子能量损失谱(EELS)在元素分析中的精度提升。 第三部分:能源材料的革新(Innovations in Energy Materials) 本部分聚焦于当前全球能源转型背景下,材料科学所扮演的核心角色。 电池与储能系统: 深入分析了锂离子电池正负极材料的结构设计,如高镍三元材料、磷酸铁锂的性能瓶颈与优化策略。讨论了固态电解质的研发进展及其对下一代高安全性电池的意义。此外,对超级电容器的材料体系也进行了专题介绍。 光伏材料与器件: 详细对比了晶体硅、薄膜太阳能电池(CdTe, CIGS)的优缺点。本书投入大量篇幅介绍钙钛矿太阳能电池(PSCs)的载流子传输机制、稳定性挑战以及界面工程的最新进展。 催化与燃料电池材料: 阐述了多相催化剂的活性位点设计,重点分析了铂族金属替代材料在电催化析氧/析氢反应中的应用,并探讨了质子交换膜燃料电池(PEMFC)中关键膜材料的性能要求。 第四部分:纳米材料与低维结构(Nanomaterials and Low-Dimensional Structures) 纳米尺度带来的独特物理化学性质是本书的亮点之一。 量子限域效应: 解释了量子点(Quantum Dots)的光谱特性与其尺寸的关系,以及在显示技术中的应用。 碳基纳米材料家族: 详尽梳理了富勒烯、碳纳米管(SWNTs, MWNTs)的结构、电子性质和宏观应用,以及石墨烯的制备方法(如机械剥离、化学气相沉积)和其在柔性电子学中的潜力。 纳米复合材料设计: 探讨了如何通过纳米填料(如纳米纤维、纳米片层)增强聚合物基体或金属基体的性能,实现超高强度或高韧性的平衡。 第五部分:智能与功能材料(Smart and Functional Materials) 本部分面向未来应用,探讨材料如何响应外部刺激并实现特定功能。 形状记忆合金与高分子: 重点分析了镍钛合金(NiTi)的马氏体相变与孪晶结构,以及智能高分子材料(如形状记忆聚合物)的热致和溶剂致响应机制。 压电与热释电材料: 介绍了锆钛酸钡(PZT)等陶瓷的畴结构控制,以及它们在传感器和驱动器中的应用。 生物医用材料导论: 讨论了生物相容性、生物降解性材料的设计原则。内容涵盖了植入物材料(如钛合金、羟基磷灰石)的表面改性技术,以及用于药物缓释系统的聚合物载体。 3. 教学特色与创新点 本书最大的特色在于其紧密的“理论-模拟-实验-应用”闭环结构。 1. 案例驱动: 每章末尾均附有详尽的“工程案例分析”,例如某新型航空发动机叶片材料的选择依据、柔性显示屏背板材料的失效模式等,确保读者能够将抽象理论与实际工程问题挂钩。 2. 数据可视化: 全书配有大量高清的相图、结构示意图、电镜照片以及模拟结果图,复杂概念通过图形化方式得以直观展现。 3. 前瞻性视野: 预留了“展望未来”的章节,讨论了高熵合金、拓扑绝缘体以及AI辅助材料发现等当前学术界最热的议题,激励读者进行创新性研究。 通过研读本书,读者将不仅掌握材料科学的经典知识体系,更能在快速发展的科技浪潮中,准确把握新材料、新技术的研发方向,为未来在高新技术产业中的深耕打下坚实基础。

用户评价

评分☆☆☆☆☆

这本书的装帧和排版着实令人眼前一亮,拿到手中,那种厚重感和纸张的质感就让人觉得这是一本用心制作的专业书籍。封面设计简洁大气,配色沉稳,很符合精密工程领域的专业调性。内页的印刷清晰度极高,图文排布错落有致,即便是那些极其复杂的理论公式和实验装置的示意图,也都能看得一清二楚,没有出现任何模糊不清或者重影的情况。尤其值得称赞的是,书中大量采用的高清彩色插图和剖面图,极大地辅助了对抽象概念的理解,比如那些关于光束整形和干涉测量的复杂几何结构,光靠文字描述是很难想象的,但有了精美的图示,瞬间就清晰了许多。而且,页边距的留白处理得当,使得在阅读过程中,可以很方便地做笔记和批注,这对于需要反复研读和查阅的工具书来说,是极其人性化的设计考量。整体来看,这本书的制作水准已经达到了顶级学术著作的水准,从书本实体本身来说,它已经是一件值得收藏的工艺品了。

评分☆☆☆☆☆

这本书的语言风格极其务实,几乎没有出现那些故作高深的术语堆砌或者夸张的形容词,行文风格非常直白、客观,仿佛是一位经验丰富的老工程师在向徒弟传授“实战经验”。我欣赏它对“工程实现”细节的关注,很多学术论文往往只关注“能做成什么”,而这本书则重点探讨了“如何稳定地、大规模地做成”,这才是工程学的核心价值所在。例如,在描述表面粗糙度控制时,书中详细对比了不同研磨介质在不同环境湿度下的表现差异,以及如何通过实时反馈系统来补偿刀具磨损带来的影响,这些具体的参数和经验教训,是那些纯理论著作中绝对找不到的“干货”。这种强调可重复性、鲁棒性和成本效益的叙事角度,极大地增强了本书的实用性,让读者能够迅速将理论知识转化为可操作的工艺参数和实验方案。

评分☆☆☆☆☆

这本书在内容组织上体现出一种严谨的递进逻辑,作者似乎非常清楚非本专业背景的读者在学习新技术时会遇到的认知障碍点,因此在每一章节的开篇,都会用相当的篇幅去回顾和梳理基础理论,确保读者在进入高阶内容前,已经牢固地掌握了必要的物理学和数学基础。这种“打地基”的教学方式,虽然在专业人士看来可能略显冗余,但对于跨领域学习者或者初入行的新手来说,简直是福音。我特别留意了关于薄膜沉积和刻蚀技术那一章,它没有直接跳到最新的设备参数,而是先详细阐述了原子层沉积(ALD)的物理化学机理,然后才逐步过渡到实际工艺窗口的选择,这种由浅入深、层层递进的结构,使得即便是初次接触这些高精尖制造流程的人,也能建立起一个完整的知识框架,而不是仅仅停留在对设备操作流程的表面了解上。这种结构安排,体现了作者深厚的教学经验和对读者需求的深刻洞察。

评分☆☆☆☆☆

从学术引用和资料的全面性来看,这本书的作者显然投入了巨大的心力进行文献调研和交叉学科的整合。我注意到书中不仅引用了光学工程领域的经典文献,还穿插了材料科学、真空物理乃至人工智能在良率分析中的应用实例。这种广阔的视野,打破了传统单一学科壁垒的限制,构建了一个更贴近现代复杂制造环境的知识体系。尤其是在探讨微纳结构光栅制造的部分,作者不仅回顾了传统的电子束刻蚀(EBL),还深入分析了纳米压印(NIL)技术在柔性基底上的应用潜力及其面临的模具疲劳问题,并将这些技术与新兴的深度学习辅助缺陷检测方法进行了关联性讨论。这种跨领域知识的融合与系统性的梳理,使得这本书不仅仅是一个技术手册,更像是一份指引未来十年光电制造技术发展方向的综合性战略报告,非常适合作为研发部门的案头工具书来储备和使用。

评分☆☆☆☆☆

我发现这本书在案例分析的选择上,展现出了极强的时效性和前瞻性。它不仅仅罗列了过去三十年内光刻、研磨等经典工艺的发展历程,更重要的是,它深入探讨了当前业界正在攻克的前沿难题,例如超分辨成像技术中的计算光刻和柔性电子器件的高精度对准技术。作者没有回避这些领域目前存在的局限性和挑战,反而直接点明了理论瓶颈和工程难题,并且提供了若干富有启发性的潜在解决方案方向。这使得这本书读起来完全不像一本静态的教科书,更像是一本与行业发展同步的动态参考手册。特别是其中关于极端紫外光(EUV)光源系统集成的章节,对系统误差的分析细致入微,远超我预期的深度,这对于从事相关系统工程设计的人员来说,无疑是极具价值的参考资料,它促使我们去思考如何优化整个制造链条的协同效率,而非孤立地看待某个单一的工序环节。

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