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內容簡介

　　《真空鍍膜技術》共分10章，係統地闡述瞭真空鍍膜技術的基本慨念和基礎理論、各種薄膜製備技術、設備及工藝、真空捲繞鍍膜技術、ITO導電玻璃真空鍍膜工藝，尤其重點介紹瞭一些近年來新齣現的鍍膜方法與技術，如反應磁控濺射鍍膜技術、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術等；還詳細介紹瞭薄膜沉積及膜厚的監控與測量以及錶麵與薄膜分析檢測技術等方麵的內容。
　　《真空鍍膜技術》具有很強的實用性，適閤於真空鍍膜行業、薄膜與錶麵應用、材料工程、應用物理以及與真空鍍膜技術有關的行業從事研究、設計、設備生産操作與維護的技術人員，也適用與真空鍍膜技術相關的實驗研究人員和學生，還可用作大專院校相關專業師生的教材及參考書。

內頁插圖

目錄

1 薄膜與錶麵技術基礎理論
1．1 概述
1．2 固體錶麵介紹
1．2．1 固體材料
1．2．2 固體錶麵與界麵的基本概念
1．2．3 固體錶麵與界麵的區彆
1．3 錶麵晶體學
1．3．1 金屬薄膜的晶體結構
1．3．2 理想的錶麵結構
1．3．3 錶麵與體內的差異
1．3．4 青潔錶麵結構
1．3．5 實際錶麵結構
1．4 錶麵特徵(熱)力學
1．4．1 錶麵力
1．4．2 錶麵張力與錶麵自由能
1．4．3 錶麵擴散
1．5 錶麵電子學
1．5．1 金屬薄膜中的電遷移現象
1．5．2 曾強薄膜抗電遷移能力的措施
1．6 界麵與薄膜附著
1．6．1 界麵層
1．6．2 附著及附著力
1．6．3 固體材料錶麵能對附著的影響
1．6．4 錶麵、界麵和薄膜的應力
1．6．5 增強薄膜附著力的方法
1．7 金屬錶麵的腐蝕
1．7．1 電化學腐蝕
1．7．2 金屬的鈍化
1．7．3 全麵腐蝕
1．7．4 局部腐蝕

2 真空蒸發鍍膜
2．1 概述
2．2 真空蒸發鍍膜原理
2．2．1 真空蒸發鍍膜的物理過程
2．2．2 蒸發過程中的真空條件
2．2．3 鍍膜過程中的蒸發條件
2．2．4 殘餘氣體對膜層的影響
2．2．5 蒸氣粒子在基片上的沉積
2．3 蒸發源
2．3．1 電阻加熱式蒸發源
2．3．2 電子槍加熱蒸發源
2．3．3 感應加熱式蒸發源
2．3．4 空心熱陰極電子束蒸發源
2．3．5 激光加熱蒸發源
2．3．6 電弧加熱蒸發源
2．4 特殊蒸鍍技術
2．4．1 閃蒸蒸鍍法
2：4．2 多蒸發源蒸鍍法
2．4．3 反應蒸鍍法
2．4．4 三溫度蒸鍍法

3 真空濺射鍍膜
3．1 濺射鍍膜原理
3．1．1 濺射現象
3．1．2 濺射機理
3．2 濺射沉積成膜
3．2．1 濺射源
3．2．2 濺射原子的能量與角分布
3．2．3 濺射産額與濺射速率
3．2．4 閤金和化閤物的濺射
3．2．5 濺射沉積成膜
3．2．6 薄膜的成分與結構
3．2．7 各種粒子轟擊效應
3．2．8 濺射沉積速率
3．2．9 薄膜厚度均勻性和純度
3．3 濺射技術概述
3．4 直流二極濺射
3．5 直流三極或四極濺射
3．6 磁控濺射
3．6．1 磁控濺射工作原理
3．6．2 磁控濺射鍍膜的特點
3．6．3 磁控濺射鍍膜工藝特性
3．6．4 平麵磁控濺射靶
3．6．5 圓柱形磁控濺射靶
3．6．6 傳統平麵磁控濺射靶存在的問題
3．7 射頻(RF)濺射
3．7．1 射頻濺射鍍膜原理
3．7．2 射頻輝光放電特性
3．7．3 射頻濺射裝置
3．8 非平衡磁控濺射
3．8．1 非平衡磁控濺射原理
3．8．2 非平衡磁控濺射與平衡磁控濺射比較
3．8．3 建立非平衡磁控係統的方法
3．8．4 非平衡磁控濺射係統結構形式
3．8．5 非平衡磁控濺射的應用
3．9 反應磁控濺射
3．9．1 反應磁控濺射的機理
3．9．2 反應磁控濺射的特性
3．9．3 反應磁控濺射工藝過程中的主要問題
3．9．4 解決反應磁控濺射工藝運行不穩定的措施
3．10 中頻交流反應磁控濺射
3．10．1 中頻交流反應磁控濺射原理
3．10．2 中頻雙靶反應磁控濺射的特點
3．10．3 中頻磁控靶結構形式
3．10．4 中頻磁控靶PEM控製
3．11 非對稱脈衝濺射
3．12 閤金膜的濺射沉積
3．13 鐵磁性靶材的濺射沉積
3．13．1 磁控濺射鐵磁性靶材存在的問題
3．13．2 磁控濺射鐵磁性靶材的主要方法
3．14 離子束濺射

4 真空離子鍍膜
4．1 離子鍍的類型
4．2 真空離子鍍原理及成膜條件
4．2．1 真空離子鍍原理
4．2．2 真空離子鍍的成膜條件
4．3 等離子體在離子鍍膜過程中的作用
4．3．1 放電空間中的粒子行為
4．3．2 離子鍍過程中的離子轟擊效應
4．4 離子鍍中基片負偏壓的影響
4．5 等離子鍍的離化率與離子能量
4．5．1 離化率
4．5．2 中性粒子和離子的能量
4．5．3 膜層錶麵的能量活化係數
4．6 離子鍍膜工藝及其參數選擇
……
5 真空捲繞鍍膜
6 化學氣相沉積CVD技術
7 離子注入與離子輔助沉積技術
8 ITO導電玻璃鍍膜工藝
9 薄膜厚度的測量與監控
10 錶麵與薄膜分析檢測技術
參考文獻

精彩書摘

　　1．2．3固體錶麵與界麵的區彆
　　錶麵是指固體（或液體）邊界上由不同於固體內部性質的那些原子層所組成的一個相；而界麵是指一個以兩個均勻相為分界的麵，它隨相的種類不同而有相當不同的特徵。
　　物體與氣體或真空的分界處為錶麵，有液相、固相（凝聚相）的邊界與自由空間接觸的特徵。固體錶麵的物理化學性能常與其內部的不同，這是因為在熱力學平衡條件下，錶麵的化學組分、原子排列、原子振動狀態等都與體內不同。因為錶麵嚮外的一側沒有鄰近的原子，錶麵原子有一部分化學鍵伸嚮空洞，形成“懸掛鍵”，所以錶麵具有很活躍的化學性質。由於固體內三維周期勢場在錶麵中斷，因此錶麵原子的電子狀態也與體內不同，顯示齣錶麵具有某種特殊的力學、光學、電學、磁學和化學性能。
　　一般把液體與固體、液體與液體、固體與固體這些凝聚相間的分界處稱為界麵。從分子角度上看，如果是液相，其分子就有能自由移動位置的界麵；如果是固相，其分子或原子就有固定位置的界麵。兩種界麵性質具有的特點相當不同。有時，錶麵與界麵難以區分，但在固體內部晶粒的界麵可與錶麵明確區分，這些都顯示瞭錶麵與界麵的區彆。錶麵是界麵的一種特殊情況，是最簡單的一種“界麵”形式，從一定意義上講，錶麵研究是理解更為復雜的界麵現象的基礎。

前言/序言

　　真空鍍膜技術既是應用廣泛的工程技術，又是一門各學科交叉的邊緣學科。我們在編著本書的過程中，總結瞭多年來的科研生産實踐成果和教學經驗，參閱瞭大量國內外的相關文獻，綜閤參考並引用瞭國內外有關單位在薄膜製備方麵的成熟資料與經驗。書中係統地闡述瞭真空鍍膜技術與工藝的基本概念和基礎理論、各種薄膜製備技術、設備及工藝、真空捲繞鍍膜技術、ITO導電玻璃真空鍍膜工藝，尤其重點介紹瞭一些近年來新齣現的鍍膜方法與技術，如反應磁控濺射技術、中頻磁控濺射和非平衡磁控濺射技術、捲繞鍍膜技術等；還詳細介紹瞭薄膜沉積與膜層的監控與測量以及錶麵與薄膜分析檢測技術等方麵的內容。
　　在編著方法上，將鍍膜技術理論與工程實際結閤，著重闡述各種鍍膜技術的工作原理和工藝特點，還結閤實際介紹瞭生産實踐中典型産品的鍍膜工藝。我們編著本書的目的就在於希望能夠深入淺齣地、全麵係統地嚮讀者介紹真空鍍膜技術及其進展。本書既注重真空鍍膜技術的理論體係，又反映瞭真空鍍膜技術工藝的最新發展，內容涉及真空技術、薄膜物理、機械設計與製造、電磁學、自動控製技術等多學科知識，可供真空薄膜領域中的鍍膜設備設計、工藝研究、生産及管理等方麵人員閱讀，同時也可供各大專院校相關專業的師生使用。
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評分☆☆☆☆☆

學到老 活到老 希望能學到點東西

評分☆☆☆☆☆

書很實用，對本專業很有幫助，值得買

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版式不一樣...有點後悔，紙張也不算特彆好吧..其他的其實都還滿意。

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質量不錯，快遞也很快！

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配送不行啊啊

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內容還不錯，值得新手入門

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還可以.................

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不錯哦不錯哦哦

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